UPE系列超纯水机

仪器简介：
优普UPE系列超纯水机，采用当今最先进的EDI（连续电除盐）超
纯水制造工艺，功能完备，水质稳定，最适合半导体元件/光碟/TFT
液晶板等集成电路研制；日立/奥林巴斯等全自动生化仪配套；中试
车间及高校学生实验室等需要大量使用超纯水之生产流程或实验楼
使用。

技术参数：
机 型 UPE-I-40/60/80/100L
进水水源 溶解性固体物TDS＜200ppm，水压＞1Kg/cm2，水温25℃
电 源 AC220V/50HZ
制 水 量 20/40/60/100升/小时
出水流速 1.5―1.8升/分钟（水箱储水时）
RO出水电导率 2~10μs/cm
UP出水电阻率 5―15 MΩ.cm
重金属离子 ＜0.1ppb
微颗粒物（0.2μm） ＜1个/ml
总有机碳（TOC） ＜30ppb
热 源 ―
主机尺寸(mm) 1520×580×500
重 量 ＞100kg
功 率 100~200W
适用范围 制备试剂溶液、缓冲液、培养基；日立/奥林巴斯等大用水量生化仪配套。
机 型 UPE-II-40/60/80/100L
进水水源 溶解性固体物TDS＜200ppm，水压＞1Kg/cm2，水温25℃
电 源 AC220V/50HZ
制 水 量 20/40/60/100升/小时
出水流速 1.5―1.8升/分钟（水箱储水时）
RO出水电导率 2~10μs/cm
UP出水电阻率 17~18.2 MΩ.cm
重金属离子 ＜0.1ppb
微颗粒物（0.2μm） ＜1个/ml
总有机碳（TOC） ＜15ppb
热 源 ―
主机尺寸(mm) 1520×580×500
重 量 ＞100kg
功 率 100~200W
适用范围 各类定量/痕量分析；半导体元件/印刷电路板/光碟/集成电路研制冲洗用水。


机 型 UPE-III-40/60/80/100L
进水水源 溶解性固体物TDS＜200ppm，水压＞1Kg/cm2，水温25℃
电 源 AC220V/50HZ
制 水 量 20/40/60/100升/小时
出水流速 1.5―1.8升/分钟（水箱储水时）
RO出水电导率 2~10μs/cm
UP出水电阻率 18.2MΩ.cm
重金属离子 ＜0.1ppb
微颗粒物（0.2μm）＜1个/ml
总有机碳（TOC） ＜3―10ppb
热 源 ＜0.001Eu/ml
主机尺寸(mm) 1520×580×500
重 量 ＞100kg
功 率 100~200W
适用范围 各类微量痕量/超低元素分析；超纯材料/超纯试剂/生物工程/中试车间等用水。

主要特点：
与传统离子交换柱比较，优普EDI模块具有如下优点：
* 制备超纯水的同时自动持续再生离子交换树脂
* 使用寿命最长可达3―5年，避免了频繁更换离子交换柱带来的麻烦
* 超纯水用量较大的客户年度耗材费用更低廉
* 连续运行，产水水质稳定
* 硅截流率＞99.9%

订货须知
1) 源水水质较硬（TDS＞400ppm）时，应选配软水器以改善进水水质。
2) 用户可根据用水情况选配120升压力纯水桶。