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NS-3500 Solar 是一种可靠的半导体晶圆检测系统,通过快速光学扫描模块和信号处理算法实现实时共焦显微图像。在测量和检测微观三维结构,可以为半导体晶片,FPD产品,MEMS设备,玻璃基板,材料表面等提供各种解决方案。
Features & Benefits(性能及优势):
高分辨无损伤光学3D测量 自动倾斜补偿
实时共焦成像 简单的数据分析模式
多种光学变焦 双Z扫描
实时CCD明场和共聚焦成像 无样品准备
大范围拼接 半透明基材的特征检测
自动聚焦
Application field(应用领域):
NS-3500是测量低维材料的有前途的解决方案。
可测量微米和亚微米结构的高度,宽度,角度,面积和体积,例如
-半导体:IC图形,凹凸高度,线圈高度,缺陷检测,CMP工艺
- FPD产品:触摸屏屏幕检测,ITO图案,LCD柱间距高度
- MEMS器件:结构三维轮廓,表面粗糙度,MEMS图形
-玻璃表面:薄膜太阳能电池,太阳能电池纹理,激光图案
-材料研究:模具表面检测,粗糙度,裂纹分析
Specifications(规格):
Model |
Microscope NS-3500 Solar |
备注 |
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物镜倍率 |
10x |
20x |
50x |
100x |
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观察/ 测量范围 |
水平 (H): μm |
1400 |
700 |
280 |
140 |
|
垂直 (V): μm |
1050 |
525 |
210 |
105 |
|
|
工作范围: mm |
16.5 |
3.1 |
0.54 |
0.3 |
|
|
数值孔径(N.A.) |
0.30 |
0.46 |
0.80 |
0.95 |
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|
光学变焦 |
x1 to x6 |
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||||
总放大倍率 |
178x to 26700x |
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观察/测量光学系统 |
Pinhole共聚焦光学系统 |
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高度测量 |
测量扫描范围 |
400 um |
注 1 |
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显示分辨率 |
0.001 μm |
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重复率 σ |
0.010 μm |
注 2 |
||||
帧记忆 |
像素 |
1024x1024, 1024x768, 1024x384, 1024x192, 1024x96 |
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单色图像 |
12 bit |
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彩色图像 |
8-bit for RGB each |
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高度测量 |
16 bit |
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帧速率 |
表面扫描 |
20 Hz to 160 Hz |
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线扫描 |
~8 kHz |
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激光共焦测量光源 |
波长 |
405nm |
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输出 |
~2mW |
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激光等级 |
Class 3b |
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激光接收元件 |
PMT (光电倍增管) |
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光学观察光源 |
灯 |
10W LED |
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光学观察照相机 |
成像元件 |
1/2” 彩色图像 CCD 传感器 |
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记录分辨率 |
640x480 |
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自动调整 |
增益, 快门速度, White balance |
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数据处理单元 |
PC |
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电源 |
电源电压 |
100 to 240 VAC, 50/60 Hz |
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电流消耗 |
500 VA max. |
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重量 |
显微镜 |
Approx. ~50 kg (Measuring head unit : ~12 kg) |
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控制器 |
~8 kg |
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隔振系统 |
气浮光学平台隔振系统 |
Option |
注1:精细扫描由压电执行器(PZT)执行。
注2 :以100×/ 0.95物镜对标准样品(步长1μm)进行100次测量。